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更新日期：2025-05-08

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高純二硫化鉬粉末

高純MoS2粉末高純二硫化鉬粉末（1g）純度：99.9995% 重量：1g 制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié) 用途：用于生長制備二維晶體材料

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銅基石墨烯薄膜（5*5cm）

形狀：可任意裁剪尺寸：1*1cm/2*2cm/5*5cm/10*10cm 層數(shù)：單層晶粒：單晶/多晶，50~300um

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定制單層二硫化鉬-帶電極

1．將單層硫化鉬轉(zhuǎn)移至襯底（襯底可根據(jù)客戶需求選定） 2．邊長15um （三角形）片內(nèi)層數(shù)均勻 3．襯底上轉(zhuǎn)移3個（數(shù)量可定制）帶電極的單層硫化鉬樣品 4．電極間距：~5um

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銅基石墨烯薄膜（10*10cm）

形狀：可任意裁剪尺寸：1*1cm/2*2cm/5*5cm/10*10cm 層數(shù)：單層晶粒：單晶/多晶，50~300um

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